Die reaktive Einfachmagnetron-Sputterbeschichtungsanlage STARpro deckt mit Si3N4- und SiO2-Schichtsystemen ein breites Anwendungsspektrum ab. Sie ist kompakt, einfach zu installieren und eignet sich ideal für die Fertigung optischer Filter in kleinen Chargen, schnelles Prototyping und F&E Anwendungen.
Die separate Schleusenkammer erhält das Vakuum in der Prozesskammer aufrecht und verhindert, das Partikel oder Feuchtigkeit eindringen. Die Schleusenkammer wird nach dem Laden der Substrate evakuiert, und der Schieber zwischen der Lade- und der Prozessstation wird nur bei keinem oder geringem Differenzdruck geöffnet. So wird die Partikelbelastung im Verarbeitungsbereich auf ein Minimum gesenkt.
Der Beschichtungsbereich ist so konstruiert, dass sich die Abstände zwischen Target und Substraten über einen Elektroantrieb genau einstellen lassen. Da das Abtragungsprofil mit der Zeit immer tiefer wird, können Sie die Gleichförmigkeit der Beschichtung durch eine Verkürzung des Abstands aufrechterhalten und erzielen so eine hohe Produktqualität über die gesamte Target-Lebensdauer hinweg.
Die STARpro Anlage erhöht die Gleichmässigkeit der Beschichtungen, indem das Substrat während der Verarbeitung unter der Quelle in einem Umlaufsystem rotiert. So ist stets für höchste Beschichtungsqualität gesorgt.
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