精密光学真空镀膜
NESSY series
NESSY 系列用于在超高真空 (UHV) 条件下为极紫外 (EUV) 镜面进行镀膜，特别适用于极紫外光刻、X 光测量装置、同步辐射光学装置和其他科学应用的研发和批量生产。
主要优点
适用于多种材料
NESSY 镀膜装置可配备多达六个不同的矩形溅射阴极，可使用钼和硅以及在单个循环内实现完整膜层所必须的其他材料。
高品质无缺陷的薄膜
对于 7 nm 周期层厚度，NESSY 镀膜机设备可帮助您实现下一代光刻 EUV 光学中所必须的亚原子均匀性。
前沿技术
NESSY 设备的多层干涉镜面是用于形成 EUV 光刻（最大反射率为 13.5 nm 多层镜面）、X 光测量装置、同步辐射光学装置和其他科学应用的下一代解决方案。
突出特点
超高真空基准压力小于 9*10 - 9 mbar
超高真空压力可提供优异的薄膜质量
设备通过高度成熟的设计和精密制造，实现超高真空压力，制备理想的化学计量单位的高质量薄膜。
亚原子范围内的膜层统计精度
优异的厚度、精度和均匀性
NESSY 系列机械设计基于极小公差，保证溅射源在沉积过程中的良好稳定性。NESSY 制备的产品亚原子态均匀性保持良好，可应用在 EUV 和其他具有挑战性的光学应用领域。
可调节溅射距离
专为满足严苛产品要求而设计
基底架拥有双行星旋转系统，旨在管理所需的基底运动，实现高精度均匀性。高速直接基底旋转与采用可编程速度配置文件的围绕腔室的低速旋转相结合。这使得 NESSY 能够对各种几何尺寸的基底进行镀膜，匹配您的具体应用。
关键主题
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